お知らせ
news

2021.06.23　 ニューガラス 山村フォトニクスが赤外・紫外応用技術展 OPIE’21に出展します

各位

 

当社グループの山村フォトニクス株式会社は、
2021年6月30日(水)～2021年7月2日(金)の期間、パシフィコ横浜にて開催される
赤外・紫外応用技術展OPIE’21にブース出展いたします。

 

会場：パシフィコ横浜 展示ホールA,B
ブースNo：E-56
展示内容：赤外および紫外用パッケージ向け部品
（石英LID、紫外線透過ガラスLID、Ge Capなど）

 

皆様のご来場をお待ちしております。

 

・OPIE’21 WEBサイト
・山村フォトニクス WEBサイト

 

以上

一覧に戻る

他の記事を見る